안녕하세요, ASML 2026년 1분기 실적 발표 영상에 오신 것을 환영합니다. Christophe와 Roger, 환영합니다.

Roger, 먼저 Q1 2026년 실적 요약을 부탁드려도 될까요?

해당 분기 총 순매출은 88억 유로였습니다. 이는 가이던스 범위 내였습니다. 88억 유로에는 설치 기반(Installed Base) 매출 25억 유로가 포함되었습니다. 이는 가이던스보다 약간 높은 수치입니다. Q1의 총 마진율을 보시면 53%입니다. 이는 저희가 제시한 총 마진율 범위의 상단에 해당합니다. 설치 기반 사업을 보시면, 제가 방금 언급했듯이, 설치 기반 사업은 예상보다 높았습니다.

또한 설치 기반 사업의 구성 요소를 보시면, 실제로 상당히 높은 총 마진율을 기록한 구성 요소들이 있었습니다. 그 결과, 53%라는 상당히 높은 총 마진율을 달성했습니다. 해당 분기 순이익은 28억 유로였습니다.

Q2 '26년 실적 가이던스도 함께 제공해 주시겠습니까?

Q2의 총 순매출은 84억 유로에서 90억 유로 사이가 될 것으로 예상합니다. 여기에는 다시 설치 기반 사업 25억 유로가 포함됩니다. 총 마진율은 51%에서 52% 사이가 될 것으로 예상합니다.

Christophe, 이제 당신께 넘어가겠습니다. 현재 시장 전망과 상황에 대해 말씀해 주시겠습니까?

네, 반도체 산업 성장이 계속해서 견고해지고 있다고 생각합니다. 이는 여전히 AI 인프라에 대한 투자에 의해 크게 주도되고 있습니다. 따라서 이는 고급 메모리와 고급 로직에 대한 많은 수요로 이어집니다. 그리고 가까운 미래에는 공급이 수요를 충족하지 못할 것으로 예상합니다. 따라서 이는 AI부터 모바일 및 PC에 이르기까지 최종 시장에서 상당한 제약을 야기하고 있습니다.

결과적으로 고객들은 더 많은 생산 능력을 창출하도록 강력히 권고받고 있습니다. 따라서 메모리를 보면, 고객들이 2026년까지는 이미 매진되었으며 공급 제약은 2026년 이후에도 지속될 것이라고 말하고 있습니다. 고급 로직의 경우, 고객들이 여러 노드에 대한 생산 능력을 구축하고 있으며, AI 제품을 처리하기 위해 2나노 공정을 계속해서 확대하고 있는 것을 보고 있습니다.

그렇다면 이러한 생산 능력 증대가 저희 전망에 긍정적으로 작용한다고 말해도 될까요?

네, 물론입니다. 저희 메모리 및 로직 고객들이 자본 지출을 늘리고 있으며, 2026년 이후 생산 능력 확대를 가속화하려고 노력하고 있는 것을 보고 있습니다. 또한 매우 흥미로운 점은 이러한 수요의 상당 부분이 고객과의 장기적인 약속에 의해 뒷받침된다는 것입니다. 이에 더해, 저희는 메모리 고객, DRAM 고객 및 고급 로직 고객 모두 EUV뿐만 아니라 침지(immersion) 공정 채택을 계속해서 늘리고 있습니다.

따라서 이는 본질적으로 리소그래피 집약도와 ASML에 대한 리소그래피 수요 증가로 이어집니다. 따라서 저희는 생산 능력을 늘리기 위해 고객들과 매우 긴밀하게 협력할 것입니다. 저희는 2026년에 이를 수행하고 있으며, 2027년에도 계속할 것입니다.

그리고 Roger, 이에 덧붙여 시장 수요를 지원하기 위해 저희가 실제로 어떤 조치를 취하고 있는지에 대해 좀 더 구체적인 내용이나 세부 정보를 제공해 주시겠습니까?

네, Christophe가 정확하게 말했습니다. 저희는 고객들과 매우 명확하게 협력하고 있으며, 고객들이 필요로 하는 것을 제공하기 위해 완전히 협력하고 있습니다. 이는 신규 출하 측면에서의 생산 능력 조합, 시스템의 성능을 최대한 업그레이드하고 설치 기반 제품을 제공하는 것입니다. 따라서 이러한 조합을 통해 고객들이 필요로 하는 것을 제공하려고 노력하고 있으며, 특히 저희 자체 생산 능력과 관련해서는 더욱 그렇습니다.

올해 2026년의 경우, EUV Low NA에 대해 최소 60대의 시스템을 생산할 수 있을 것으로 생각합니다. 현재 저희가 보유하고 있는 것이며, 현재 추진하고 있는 것입니다. 여기에 더해, 2026년에는 심자외선(deep UV)을 살펴보고 있습니다. 몇 달 전에 말씀드렸듯이, 침지 심자외선(immersion deep UV)의 경우, 작년에 저희가 실제로 결정했던 - 침지 공정에 대한 수요가 상당히 낮을 것으로 예상했기 때문에 - 다소 느린 시작을 보였습니다.

이제 상황이 반전되었습니다. 그리고 저는 이러한 느린 시작에도 불구하고, 단위 수 기준으로 작년과 거의 비슷한 침지 매출을 올해도 달성할 것으로 예상합니다. 이것이 2026년입니다. 2027년의 경우, 생산 능력 측면에서 분기별로 이동 속도를 실제로 높이고 있습니다. 그리고 특히 EUV Low NA를 보면, 2027년까지 생산 능력을 달성할 수 있을 것으로 예상합니다.

다시 한번, 고객 수요가 이를 뒷받침한다면, 최소 80대의 Low NA EUV 장치를 달성할 수 있을 것으로 생각합니다. 또한 비-EUV 사업이 고객들이 모든 노드에 대해 요구하는 수준과 일치하도록 할 것입니다.

그리고 2026년에 대해 구체적으로 말씀드리자면, 연간 저희 사업에 대한 업데이트를 제공해 주시겠습니까?

네. 분명히 2026년은 매우 순조롭게 진행되고 있으며, 매우 강력한 한 해가 될 것입니다. 저희는 강력한 성장 연도를 기대하고 있습니다. 그리고 Christophe가 말했던 모든 고객 역학 관계를 바탕으로, 올해 저희의 예상 범위를 360억 유로에서 400억 유로로 좁히고 또한 확대하고 있습니다. 이미 예상했던 다양한 변동 요소를 보면, EUV는 올해 강력합니다.

따라서 Low NA와 High NA를 결합한 EUV는 해당 분야에서 강력한 한 해가 될 것입니다. 비-EUV 사업의 경우, 이전에는 작년과 비교하여 보합세를 예상했습니다. 현재 저희는 사실상 수요 증가를 보고 있습니다. 따라서 비-EUV 사업의 매출 증대를 예상하고 있습니다. 침지 공정에 대해 이미 언급했으며, 건식(dry) 사업도 상당히 잘 진행되고 있으며 응용 사업(application business)도 마찬가지입니다.

따라서 몇 달 전 상황과 비교했을 때, 비-EUV 사업의 증가를 예상하고 있다고 믿습니다. 설치 기반 사업의 경우, 고객들이 Christophe가 말했던 수요를 충족하기 위해 생산 능력을 늘릴 수 있는 매우 빠른 방법이기 때문에 강력한 성장을 보이고 있습니다. 그리고 저희가 제공한 360억 유로에서 400억 유로 범위 내에서, 현재 진행 중인 수출 통제 논의의 잠재적 결과들을 수용할 수 있다고 믿습니다.

2026년 총 마진율은 어떻습니까?

총 마진율의 경우, 51%에서 53%의 예상치를 유지합니다.

기술 쪽으로 전환하여, Christophe, 기술 및 로드맵 진행 상황에 대한 통찰력과 최신 업데이트를 제공해 주시겠습니까?

네, 기술 로드맵을 매우 잘 실행하고 있다고 생각합니다. 매년 SPIE 컨퍼런스를 통해 저희가 달성한 것에 대해 전 세계에 업데이트를 제공합니다. 올해 몇 가지 중요한 소식이 있습니다. 첫 번째는 1,000와트 소스 시연이었습니다. 이는 Low NA EUV의 확장성을 앞으로 수년간 확보할 수 있다는 것을 의미하기 때문에 매우 중요합니다. 이는 실제로 2031년에는 현재보다 훨씬 향상된 시간당 330개의 웨이퍼로 이 장비를 실행할 수 있음을 의미합니다.

EUV의 발전은 단기적으로도 좋은 영향을 미치고 있습니다. NXE:3800E의 처리량을 시간당 220개에서 230개 웨이퍼로 늘릴 수 있었으며, 이는 단기적으로 생산 능력에도 도움이 됩니다. 고객들은 어떤 장비에서든 더 많은 웨이퍼를 생산할 수 있다는 사실에 매우 만족하고 있습니다. 또한 저희는 차세대 시스템인 NXE:3800F의 사양을 시간당 260개 웨이퍼로 늘리고 있습니다.

이전에는 시간당 250개 웨이퍼였으며, 이는 2028년경 생산 능력에도 도움이 될 것입니다.

그리고 SPIE에서 High NA 플랫폼 진행 상황에 대한 업데이트도 있었습니다. 그 부분에 대해 좀 더 공유해 주시겠습니까?

네. 그리고 SPIE에서 좋았던 점은 고객들이 High NA에 대해 이야기하기 시작했다는 것입니다. 그리고 몇 가지 사항을 보고했습니다. 첫째, 물론 High NA를 사용하면 마스크 수를 상당히 줄일 수 있다는 사실입니다. DRAM 및 로직 고객들은 High NA를 사용하여 EUV용 마스크 수를 3개에서 1개로 줄일 수 있다고 말했습니다. 또한 이는 공정 단계를 100단계에서 10단계로 줄일 수 있으며, 이는 물론 상당한 것입니다.

이것이 바로 우리가 High NA를 사용하는 이유입니다. 또한 생태계에서도 큰 진전을 이루었으며, 일부 레지스트 파트너들과의 좋은 발표를 통해 High NA를 로직의 경우 18나노미터 라인 및 스페이스 피치까지, 메모리의 경우 28나노미터 홀 크기까지 확장할 수 있음을 지적했습니다. 이는 기본적으로 High NA가 본 방송을 준비하고 있을 뿐만 아니라, High NA를 주로 3, 4개의 노드에 대해 확장할 수 있다는 것을 이미 알고 있다는 것을 의미하며, 이는 물론 고객에게 매우 중요합니다.

마지막으로, 도구의 성숙도가 중요합니다. 가용성 데이터가 개선되고, 하루에 더 많은 웨이퍼를 처리하며, 더 많은 웨이퍼를 생산하는 것을 계속해서 보고 있습니다. 그리고 고객들이 실제 제품에서 High NA를 테스트하기 시작함에 따라 이는 물론 점점 더 중요해지고 있습니다.

오늘 저희와 함께 해주셔서 두 분께 감사드립니다. 네, 정말 감사합니다.

기쁨입니다.